市場經(jīng)濟(jì)存在著激烈競爭,商場如戰(zhàn)場,誰都想自己的產(chǎn)品能占領(lǐng)市場,要達(dá)到這種目的,就要把自己的發(fā)明創(chuàng)造及時(shí)申請(qǐng)專利,使自己的發(fā)明創(chuàng)造得到國家法律保護(hù),否則,你的發(fā)明創(chuàng)造誰都可以使用,你的產(chǎn)品誰都可以仿造,那時(shí)就會(huì)失去占有市場的機(jī)會(huì)。自己的發(fā)明創(chuàng)造如果不及時(shí)申請(qǐng)專利,別的人知道你的發(fā)明創(chuàng)造后,就會(huì)把你的勞動(dòng)成果占為己有,把你的產(chǎn)品提出專利申請(qǐng),當(dāng)?shù)玫綄@麢?quán)后,反過來向法院或?qū)@芾頇C(jī)構(gòu)告你侵犯專利權(quán),使原發(fā)明者的勞動(dòng)成果不能使用,不能實(shí)施,使原發(fā)明者處于挨打的被動(dòng)地位。


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  一、獨(dú)占市場

  一種產(chǎn)品只要授予專利權(quán),就等于在市場上具有了獨(dú)占權(quán)。未經(jīng)專利權(quán)人的許可,任何人都不得生產(chǎn)、銷售、許諾銷售、使用、進(jìn)口該專利產(chǎn)品。 因此,專利有很重要的占領(lǐng)和保護(hù)市場的作用,這種作用在關(guān)貿(mào)總協(xié)定中制定了與貿(mào)易相關(guān)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)協(xié)定后更加突出了,它把對(duì)專利的保護(hù)與國際間的貿(mào)易相掛鉤,強(qiáng)化了對(duì)專利的保護(hù)力度。

  二、防止他人模仿

  專利申請(qǐng)可以防止他人模仿開發(fā)的新技術(shù)、新產(chǎn)品。一項(xiàng)技術(shù)一旦申請(qǐng)專利,無論這項(xiàng)技術(shù)通過發(fā)表論文,還是參加學(xué)術(shù)會(huì)議或展示會(huì),或以其它方式的公開,均是在法律保護(hù)下的公開,任何人即使通過上述途徑學(xué)會(huì)或掌握了這項(xiàng)技術(shù),在這項(xiàng)技術(shù)被授予專利權(quán)后,也不能隨便使用。

  技術(shù)含量高的產(chǎn)品需要專利保護(hù),技術(shù)含量低的產(chǎn)品更需要專利保護(hù),因?yàn)榧夹g(shù)含量低的產(chǎn)品更容易被模仿,企業(yè)應(yīng)予重視。


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  三、可作為商品來出售(轉(zhuǎn)讓)

  專利技術(shù)可以作為商品出售(轉(zhuǎn)讓)。純技術(shù)一旦被授予專利權(quán)就變成了工業(yè)產(chǎn)權(quán),形成了無形資產(chǎn),具有了價(jià)值。一項(xiàng)純技術(shù)不能成為工業(yè)產(chǎn)權(quán)(技術(shù)秘密除外)。因此,技術(shù)發(fā)明只有申請(qǐng)專利,并經(jīng)專利局審查后,授予專利權(quán),才能變成國際公認(rèn)的無形資產(chǎn)。

  四、避免被他人搶先申請(qǐng)

  雖然專利法規(guī)定在專利申請(qǐng)日前應(yīng)當(dāng)在國內(nèi)沒有公開制造、銷售、使用過,但由于事后要取得相應(yīng)的有效證據(jù)相當(dāng)困難,因此,存在他人將你已經(jīng)公開的產(chǎn)品(或技術(shù))拿去申請(qǐng)并獲得有效專利的可能,甚至倒過來追究你的侵權(quán)責(zé)任,到時(shí)就得不償失了。


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  五、可靠的宣傳途徑

  在宣傳廣告或產(chǎn)品打上專利標(biāo)志,消費(fèi)者認(rèn)為這種商品更具可靠性、信用性,提高企業(yè)的知名度。

  六、避免會(huì)展上撤下展品的尷尬

  在展覽會(huì)上,專利權(quán)好比是新產(chǎn)品的"出生證",誰擁有該"出生證",誰就擁有了該產(chǎn)品作為專利產(chǎn)品展示的權(quán)利。否則,隨時(shí)有被責(zé)令撤下展示物品的危機(jī),甚至?xí)蝗∠麉⒄官Y格(大型會(huì)展一般都有知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)的相關(guān)規(guī)定)。因此,參展企業(yè)對(duì)自己研發(fā)的新產(chǎn)品應(yīng)當(dāng)及時(shí)申請(qǐng)專利,對(duì)由供貨商完成研發(fā)的新產(chǎn)品則建議其申請(qǐng)專利后再組織參展。


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